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상반기, 외국인이 中서 출원한 지적재산권 수량

국가지적재산권국이 9일 발표한 데이터에서 2019년 상반기, 외국인이 중국에서 출원한 지적재산권 수량이 안정적으로 늘어난 것으로 나타났다. 이는 국제사회가 중국의 지적재산권보호에 믿음을 가지고 있다는 표현이다.

2019년 상반기, 외국인이 중국에서 출원한 발명특허 수량과 상표 수량이 각각 동기대비 8.6%와 15.4%가 늘어난 7.8만건과 12.7만건에 달했다.

국가 별로 보면, 발명특허는 일본, 미국과 독일이 중국에서 출원을 가장 많이 한 국가 Top 3에 들었고 그들의 동기대비 증가율은 각각 12.6%, 3.4%와 6.6%에 달했으며 상표 면에서는 미국, 일본과 영국이 중국에서 출원을 가장 많이 한 국가 Top 3에 들었고 동기대비 증가율은 각각 13.6%, 31.4%와 56.9%에 달했다.

“비 자국민 지적재산권 출원 수량은 한 나라의 지적재산권보호 수준과 비즈니스 환경을 반영하는 ‘풍향계’와 ‘기압계’다”. 거수(葛樹) 국가지적재산권국 전략기획사 사장은 현재 외국인이 중국에서 출원하는 지적재산권 수량이 늘어나는 추세이고 이는 글로벌 혁신 주체가 중국의 지적재산권보호와 비즈니스 환경에 확고한 믿음을 가지고 있다는 점을 충분히 구현했다고 말했다.

원문 출처:신화사

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